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品牌宇晶型號yj2m9b-5l 類型圓盤式（拋光機） 電源電壓多款供選 空載轉速60（轉/分鐘） 拋光輪直徑622（mm） 適用范圍硅片、石英晶片、光學晶體、玻璃、寶石、鈮酸鋰、化、陶瓷片重量2200（kg）
產品簡介 主要用途:本機主要適用于硅片、石英晶片、光學晶體、玻璃、寶石、鈮酸鋰、化、陶瓷片等薄脆金屬或非金屬的研磨或拋光。 產品規(guī)格 1、研磨盤直徑（mm）:φ622×φ218×25 2、大理想研磨直徑（mm）：φ160 3、加工件平面平行度：0.15u(φ10) 4、游輪參數(shù)：英制dp12，z=108 5、游輪數(shù)量：5個 6、小研磨厚度：0.1mm(φ10) 7、主機功率：4kw（研磨）5.5kw（拋光） 8、下研磨盤轉速(rpm):0~60 9、砂泵功率：120w 10、流砂形式：循環(huán)或點滴 11、設備外形尺寸（mm）： 1000×1350×2200 12、重量（kgs）：~2200 產品優(yōu)點 1、采用交流變頻電機驅動，軟啟動、軟停止，平穩(wěn)可靠。 2、油壓升降齒圈、非常平穩(wěn)，太陽輪下有墊片可調整位置，有效利用了齒圈和太陽輪。 3、上盤單獨設置了緩降氣缸，不但有效防止了薄脆工件的破碎，而且還可獨立進行壓力控制。 4、通過使用電子預置計數(shù)器，研磨的圈數(shù)、要求可準確控制。 5、可以采用修盤方式修整研磨盤。 6、可與alc（頻率監(jiān)控儀）連接。 7、該機器分輕壓、自重型yj2m9b-5l（ii）和輕壓、自重、加壓型yj2m9b-5l（iii）兩種壓力控制形式，訂貨時須注明機型。
產品優(yōu)點：1、采用交流變頻電機驅動，軟啟動、軟停止，平穩(wěn)可靠。2、油壓升降齒圈、非常平穩(wěn)，太陽輪下有墊片可調整位置，有效利用了齒圈和太陽輪。3、上盤單獨設置了緩降氣缸，不但有效防止了薄脆工件的破碎，而且還可獨立進行壓力控制。4、通過使用電子預置計數(shù)器，研磨的圈數(shù)、要求可準確控制。5、可以采用修盤方式修整研磨盤。6、可與alc（頻率監(jiān)控儀）連接。7、該機器分輕壓、自重型yj2m9b-5l（ii）和輕壓、自重、加壓型yj2m9b-5l（iii）兩種壓力控制形式，訂貨時須注明機型。
京公網(wǎng)安備11010802030469號